ବ୍ୟାଟେରୀ ଶିଳ୍ପ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ରାସାୟନିକ ସାମଗ୍ରୀ ତରଳ-ବେଡ୍ ଜେଟ୍ ମିଲ୍ ବ୍ୟବହାର କରେ
ତରଳିତ ଶଯ୍ୟା ନ୍ୟୁମେଟିକ୍ ମିଲ୍ ହେଉଛି ଶୁଖିଲା ସାମଗ୍ରୀକୁ ଚୂର୍ଣ୍ଣ କରି ସୁପରଫାଇନ୍ ପାଉଡର କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ଉପକରଣ, ଯାହାର ମୌଳିକ ଗଠନ ନିମ୍ନଲିଖିତ:
ଏହି ଉତ୍ପାଦଟି ଏକ ତରଳ ବେଡ୍ ପଲ୍ଭରାଇଜର ଯାହାର କ୍ରସିଂ ମାଧ୍ୟମ ଭାବରେ ସଙ୍କୋଚନ ବାୟୁ ବ୍ୟବହାର କରେ। ମିଲ୍ ବଡିକୁ 3ଟି ଭାଗରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇଛି, ଯଥା କ୍ରସିଂ କ୍ଷେତ୍ର, ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ କ୍ଷେତ୍ର ଏବଂ ଗ୍ରେଡିଂ କ୍ଷେତ୍ର। ଗ୍ରେଡିଂ କ୍ଷେତ୍ରକୁ ଗ୍ରେଡିଂ ଚକ ସହିତ ଯୋଗାଇ ଦିଆଯାଇଛି, ଏବଂ ଗତିକୁ କନଭର୍ଟର ଦ୍ୱାରା ଆଡଜଷ୍ଟ କରାଯାଇପାରିବ। କ୍ରସିଂ ରୁମ୍ କ୍ରସିଂ ନୋଜଲ୍, ଫିଡର, ଇତ୍ୟାଦିରେ ଗଠିତ। କ୍ରସିଂ କ୍ୟାନିଷ୍ଟର ବାହାରେ ଥିବା ରିଙ୍ଗ ସାର୍ ଯୋଗାଣ ଡିସ୍କ କ୍ରସିଂ ନୋଜଲ୍ ସହିତ ସଂଯୁକ୍ତ।
ସାମଗ୍ରୀଟି ସାମଗ୍ରୀ ଫିଡର ମାଧ୍ୟମରେ କ୍ରସିଂ ରୁମରେ ପ୍ରବେଶ କରେ। ସଙ୍କୋଚନ ବାୟୁ ନୋଜଲ୍ ବିଶେଷ ଭାବରେ ସଜ୍ଜିତ ଚାରୋଟି କ୍ରସିଂ ନୋଜଲ୍ ମାଧ୍ୟମରେ ଉଚ୍ଚ ଗତିରେ କ୍ରସିଂ ରୁମରେ ପ୍ରବେଶ କରେ। ସାମଗ୍ରୀଟି ଅଲ୍ଟ୍ରାସୋନିକ ଜେଟିଂ ପ୍ରବାହରେ ତ୍ୱରାନ୍ୱିତ ହୁଏ ଏବଂ କ୍ରସିଂ ରୁମର କେନ୍ଦ୍ରୀୟ ସଂଲଗ୍ନ ବିନ୍ଦୁରେ ବାରମ୍ବାର ଧକ୍କା ଏବଂ ଧକ୍କା ହୁଏ ଯେପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଏହା ଚୂର୍ଣ୍ଣ ନହୁଏ। ଚୂର୍ଣ୍ଣ ହୋଇଥିବା ସାମଗ୍ରୀ ଉପରକୁ ପ୍ରବାହ ସହିତ ଗ୍ରେଡିଂ ରୁମରେ ପ୍ରବେଶ କରେ। କାରଣ ଗ୍ରେଡିଂ ଚକଗୁଡ଼ିକ ଉଚ୍ଚ ଗତିରେ ଘୂରନ୍ତି, ଯେତେବେଳେ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରକୁ ଉଠେ, କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ଗ୍ରେଡିଂ ରୋଟରଗୁଡ଼ିକରୁ ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା କେନ୍ଦ୍ରାଚ୍ୟୁଲା ବଳ ଏବଂ ବାୟୁପ୍ରବାହର ସାନ୍ଦ୍ରତାରୁ ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା କେନ୍ଦ୍ରାଚ୍ୟୁଲା ବଳ ଅଧୀନରେ ଥାଏ। ଯେତେବେଳେ କଣିକାଗୁଡ଼ିକ କେନ୍ଦ୍ରାଚ୍ୟୁଲା ବଳ ଅପେକ୍ଷା ବଡ଼ କେନ୍ଦ୍ରାଚ୍ୟୁଲା ବଳ ଅଧୀନରେ ଥାଏ, ଆବଶ୍ୟକ ଗ୍ରେଡିଂ ଶକ୍ତି ଅପେକ୍ଷା ବଡ଼ ବ୍ୟାସ ଥିବା ସ୍ଥୁଳ କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ଗ୍ରେଡିଂ ଚକର ଭିତର ଚାମ୍ବରରେ ପ୍ରବେଶ କରିବେ ନାହିଁ ଏବଂ କ୍ରସିଂ ରୁମକୁ ଫେରିଯିବେ। ଆବଶ୍ୟକ ଗ୍ରେଡିଂ କଣିକାଗୁଡ଼ିକର ବ୍ୟାସ ସହିତ ପାଳନ କରୁଥିବା ସୂକ୍ଷ୍ମ କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ଗ୍ରେଡିଂ ଚକରେ ପ୍ରବେଶ କରିବେ ଏବଂ ବାୟୁପ୍ରବାହ ସହିତ ଗ୍ରେଡିଂ ଚକର ଭିତର ଚାମ୍ବରର ସାଇକ୍ଲୋନ୍ ସେପାର୍ଟରରେ ପ୍ରବାହିତ ହେବେ ଏବଂ ସଂଗ୍ରହକାରୀ ଦ୍ୱାରା ସଂଗୃହିତ ହେବେ। ଫିଲ୍ଟର ବ୍ୟାଗ ଚିକିତ୍ସା ପରେ ଫିଲ୍ଟର ବାୟୁ ଏୟାର ଇନଟେକରରୁ ମୁକ୍ତ ହୁଏ।
ଏହି ନ୍ୟୁମେଟିକ୍ ପଲ୍ଭରାଇଜରରେ ଏୟାର କମ୍ପ୍ରେସର, ତେଲ ରିମୋରର୍, ଗ୍ୟାସ୍ ଟାଙ୍କି, ଫ୍ରିଜ୍ ଡ୍ରାୟର୍, ଏୟାର ଫିଲ୍ଟର, ଫ୍ଲୁଇଡାଇଜଡ୍ ବେଡ୍ ନ୍ୟୁମେଟିକ୍ ପଲ୍ଭରାଇଜର, ସାଇକ୍ଲୋନ୍ ସେପରେଟର, ସଂଗ୍ରାହକ, ଏୟାର ଇନଟେକର୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଜିନିଷ ସାମିଲ ଅଛି।
ବିବରଣୀ ଶୋ
ଟର୍ମିନାଲ ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକର ଅବୈଧ ପ୍ରଭାବକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ ସ୍କ୍ରାପ୍ ଲୁହାକୁ ଉତ୍ପାଦ ସହିତ ସଂସ୍ପର୍ଶରେ ଆସୁଥିବା ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ଅଂଶଗୁଡ଼ିକରେ ସିରାମିକ୍ସ ପେଷ୍ଟିଂ ଏବଂ PU ଲାଇନିଂ।
1. ସଠିକ୍ ସିରାମିକ୍ ଆବରଣ, ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକର ଶୁଦ୍ଧତା ସୁନିଶ୍ଚିତ କରିବା ପାଇଁ ସାମଗ୍ରୀ ବର୍ଗୀକରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟାରୁ ଲୁହା ପ୍ରଦୂଷଣକୁ 100% ଦୂର କରେ। ବିଶେଷକରି କୋବାଲ୍ଟ ଉଚ୍ଚ ଏସିଡ୍, ଲିଥିୟମ୍ ମାଙ୍ଗାନିଜ୍ ଏସିଡ୍, ଲିଥିୟମ୍ ଲୁହା ଫସଫେଟ୍, ଟର୍ନାରି ସାମଗ୍ରୀ, ଲିଥିୟମ୍ କାର୍ବୋନେଟ୍ ଏବଂ ଏସିଡ୍ ଲିଥିୟମ୍ ନିକେଲ ଏବଂ କୋବାଲ୍ଟ ଇତ୍ୟାଦି ବ୍ୟାଟେରୀ କ୍ୟାଥୋଡ୍ ସାମଗ୍ରୀ ପରି ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ସାମଗ୍ରୀର ଲୁହା ପରିମାଣର ଆବଶ୍ୟକତା ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ।
୨. ତାପମାତ୍ରାରେ କୌଣସି ବୃଦ୍ଧି ନାହିଁ: ବାୟୁଗତ ପ୍ରସାରଣର କାର୍ଯ୍ୟ ପରିସ୍ଥିତିରେ ସାମଗ୍ରୀଗୁଡ଼ିକୁ ପୂଜକ କରାଯାଇ ଥିବାରୁ ଏବଂ ମିଲିଂ ଗହ୍ବରରେ ତାପମାତ୍ରା ସ୍ୱାଭାବିକ ରଖାଯାଉଥିବାରୁ ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ପାଇବ ନାହିଁ।
3. ସହନଶୀଳତା: ଗ୍ରେଡ୍ 9 ତଳେ Mohs କଠିନତା ଥିବା ସାମଗ୍ରୀରେ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଏ। କାରଣ ମିଲିଂ ପ୍ରଭାବରେ କାନ୍ଥ ସହିତ ଧକ୍କା ହେବା ପରିବର୍ତ୍ତେ କେବଳ ଶସ୍ୟ ମଧ୍ୟରେ ଆଘାତ ଏବଂ ଧକ୍କା ଜଡିତ ଥାଏ।
୪. ଶକ୍ତି-ପ୍ରଭାବଶାଳୀ: ଅନ୍ୟ ବାୟୁ ନ୍ୟୁମେଟିକ୍ ପଲ୍ଭରାଇଜର ତୁଳନାରେ 30%-40% ସଞ୍ଚୟ କରେ।
୫. ଜ୍ୱଳନଶୀଳ ଏବଂ ବିସ୍ଫୋରକ ସାମଗ୍ରୀ ମିଲିଂ ପାଇଁ ନିଷ୍କ୍ରିୟ ଗ୍ୟାସକୁ ମାଧ୍ୟମ ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ।
୬. ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ସିଷ୍ଟମ ଚୂର୍ଣ୍ଣ, ଧୂଳି କମ୍, ଶବ୍ଦ କମ୍, ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସଫା ଏବଂ ପରିବେଶ ସୁରକ୍ଷା।
୭. ଏହି ସିଷ୍ଟମ ବୁଦ୍ଧିମାନ ଟଚ୍ ସ୍କ୍ରିନ୍ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ, ସହଜ କାର୍ଯ୍ୟ ଏବଂ ସଠିକ୍ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ ଗ୍ରହଣ କରେ।
8.ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ଗଠନ: ମୁଖ୍ୟ ମେସିନର ଚାମ୍ବର କ୍ରସିଂ ପାଇଁ କ୍ଲୋଜ୍ ସର୍କିଟ୍ ତିଆରି କରେ।
ଫ୍ଲୋ ଚାର୍ଟଟି ମାନକ ମିଲିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ, ଏବଂ ଗ୍ରାହକମାନଙ୍କ ପାଇଁ ଏହାକୁ ଆଡଜଷ୍ଟ କରାଯାଇପାରିବ।
| ମଡେଲ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍-୧୨୦ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍-୨୦୦ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍-୩୦୦ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍-୪୦୦ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍-୬୦୦ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍-୮୦୦ |
| କାର୍ଯ୍ୟଚାପ (Mpa) | ୦.୭୫~୦.୮୫ | ୦.୭୫~୦.୮୫ | ୦.୭୫~୦.୮୫ | ୦.୭୫~୦.୮୫ | ୦.୭୫~୦.୮୫ | ୦.୭୫~୦.୮୫ |
| ବାୟୁ ବ୍ୟବହାର (ମି.3/ମିନିଟ୍) | ୨ | 3 | 6 | 10 | 20 | 40 |
| ଫେଡ୍ ସାମଗ୍ରୀର ବ୍ୟାସ (ଜାଲ) | ୧୦୦~୩୨୫ | ୧୦୦~୩୨୫ | ୧୦୦~୩୨୫ | ୧୦୦~୩୨୫ | ୧୦୦~୩୨୫ | ୧୦୦~୩୨୫ |
| ପେଷଣର ସୂକ୍ଷ୍ମତା (d)97(ମାତ୍ର) | ୦.୫~୮୦ | ୦.୫~୮୦ | ୦.୫~୮୦ | ୦.୫~୮୦ | ୦.୫~୮୦ | ୦.୫~୮୦ |
| କ୍ଷମତା (କିଲୋଗ୍ରାମ/ଘଣ୍ଟା) | ୦.୫~୧୫ | ୧୦~୧୨୦ | ୫୦~୨୬୦ | ୮୦~୪୫୦ | ୨୦୦~୬୦୦ | ୪୦୦~୧୫୦୦ |
| ସଂସ୍ଥାପିତ ଶକ୍ତି (kw) | 20 | 40 | 57 | 88 | ୧୭୬ | ୩୪୯ |
| ସାମଗ୍ରୀ | ପ୍ରକାର | ଫେଡ୍ ହୋଇଥିବା କଣିକାଗୁଡ଼ିକର ବ୍ୟାସ | ନିର୍ଗତ କଣିକାଗୁଡ଼ିକର ବ୍ୟାସ | ଆଉଟପୁଟ୍(କିଗ୍ରା/ଘଣ୍ଟା） | ବାୟୁ ବ୍ୟବହାର (ମି.3/ମିନିଟ୍) |
| ସେରିୟମ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୩୦୦ | ୪୦୦(ମେସ୍) | d97,୪.୬୯μm | 30 | 6 |
| ଜ୍ୱାଳା ପ୍ରତିରୋଧକ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୩୦୦ | ୪୦୦(ମେସ୍) | d97,୮.୦୪ମାଇକ୍ରୋମିଟର | 10 | 6 |
| କ୍ରୋମିୟମ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୩୦୦ | ୧୫୦(ମେସ୍) | d97,୪.୫୦μm | 25 | 6 |
| ଫ୍ରୋଫିଲାଇଟ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୩୦୦ | ୧୫୦(ମେସ୍) | d97,୭.୩୦μm | 80 | 6 |
| ସ୍ପାଇନେଲ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୩୦୦ | 300(ମେସ୍) | d97,୪.୭୮μm | 25 | 6 |
| ଟାଲକମ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d97,୧୦μମି | ୧୮୦ | 10 |
| ଟାଲକମ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d97,୧୦μମି | ୫୦୦ | 20 |
| ଟାଲକମ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୮୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d97,୧୦μମି | ୧୨୦୦ | 40 |
| ଟାଲକମ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୮୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d97,୪.୮μm | ୨୬୦ | 40 |
| କ୍ୟାଲସିୟମ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d50,୨.୫୦μm | ୧୧୬ | 10 |
| କ୍ୟାଲସିୟମ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d50,୨.୫୦μm | ୨୬୦ | 20 |
| ମ୍ୟାଗ୍ନେସିୟମ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d50,୨.୦୪μm | ୧୬୦ | 10 |
| ଆଲୁମିନା | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୧୫୦(ମେସ୍) | d97,୨.୦୭ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | 30 | 10 |
| ପର୍ଲ ପାୱାର | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | 300(ମେସ୍) | d97,୬.୧୦μମି | ୧୪୫ | 10 |
| କ୍ୱାର୍ଟଜ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୨୦୦(ମେସ୍) | d50,୩.୧୯ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | 60 | 10 |
| ବାରିଟେ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d50,୧.୪୫ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | ୧୮୦ | 10 |
| ଫୋମିଂ ଏଜେଣ୍ଟ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | d50,୧୧.୫୨μm | d50,୧.୭୦μm | 61 | 10 |
| ମାଟି କାଓଲିନ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | ୪୦୦(ମେସ୍) | d50,୨.୦୨μମି | ୧୩୫ | 20 |
| ଲିଥିୟମ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୨୦୦(ମେସ୍) | d50,୧.୩୦μm | 60 | 10 |
| କିରାରା | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | ୪୦୦(ମେସ୍) | d50,୩.୩୪ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | ୧୮୦ | 20 |
| ପିବିଡିଇ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୩୨୫ (ମେସ୍) | d97,୩.୫୦μm | ୧୫୦ | 10 |
| ଏଜିଆର | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୪୦୦ | ୫୦୦(ମେସ୍) | d97,୩.୬୫μm | ୨୫୦ | 10 |
| ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | d50,୩.୮୭ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | d50,୧.୧୯ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | ୭୦୦ | 20 |
| ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | d50,୩.୮୭ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | d50,୧.୦୦μm | ୩୯୦ | 20 |
| ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | d50,୩.୮୭ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | d50,୦.୭୯μm | ୨୯୦ | 20 |
| ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୬୦୦ | d50,୩.୮୭ ମାଇକ୍ରୋମିଟର | d50,୦.୬୬ମାଇକ୍ରୋମିଟର | 90 | 20 |
| ଅବତଳ-ଉତ୍ତଳ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୮୦୦ | 300(ମେସ୍) | d97,୧୦μମି | ୧୦୦୦ | 40 |
| କଳା ସିଲିକନ୍ | କ୍ୟୁଡିଏଫ୍୮୦୦ | ୬୦(ମେସ୍) | ୪୦୦(ମେସ୍) | ୧୦୦୦ | 40 |
